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LISTA DE FIGURAS
FIGURA 1: Evolução do número de publicações científicas anuais relacionadas com os nanotubos de
carbono desde a sua descoberta em 1991. Pesquisa feita na Web of Science em 18/10/2007. ........... 2
FIGURA 2: Representação esquemática de nanotubos de carbono de paredes múltiplas (NTCPM) (A)
e de parede simples (NTCPU) (B) .................................................................................................................... 3
FIGURA 3: Diagrama de formação de nanotubos de carbono a partir de uma folha de grafite . ............3
FIGURA 4: Geometrias de NTCs perfeitos: (a) armchair, (b) zig-zag, (c) chiral . ..................................... 4
FIGURA 5: Imagens de MEV de NTC alinhados. NTC alinhados perpendicularmente à superfície de
um substrato (a); NTC espaçados uniformemente dentro de um arranjo de nanotubos alinhados (b);
Alta densidade de NTC alinhados sobre a superfície de SiO
2
, gerados pela oxidação de Si (c)........... 6
FIGURA 6: NTCs orientados horizontalmente (H) e verticalmente (V). Barra de escala de 50 µm
17
. ....6
FIGURA 7: Representação molecular do ácido 2- [(2,3- dimetilfenil) amino] benzóico, ou seja, do
ácido mefenâmico. ............................................................................................................................................. 17
FIGURA 8: Representação esquemática da diferença de potencial em função do tempo em
voltametria de pulso diferencial em instrumentos analógicos (a); em instrumentos digitais (b)............. 23
FIGURA 9: Voltamograma de pulso diferencial registrado em aparelhagem digital................................ 23
FIGURA 10: Etapas envolvidas na voltametria de redissolução anódica (a); Voltamogramas
hipotéticos envolvidos na etapa de redissolução para os íons Cd
2+
e Cu
2+
(b)........................................ 25
FIGURA 11: Representação gráfica de uma curva analítica usada em voltametria. O gráfico
representa a corrente de pico vs. concentração, de um dado metal.......................................................... 26
FIGURA 12: Curva de adição de padrão utilizada em voltametria. ............................................................ 27
FIGURA 13: Fluxograma da construção do eletrodo de trabalho. ..............................................................34
FIGURA 14: Representação esquemática de uma curva analítica, a qual é possível observar o
coeficiente angular da reta “b” e o coeficiente linear “a”. Da relação 3S
b
/ b se encontra o limite de
detecção e o desvio padrão do branco (DP).................................................................................................. 36
FIGURA 15: Voltamogramas cíclicos sobre os eletrodos NTCPM (a), NTCPU (b), NTCPMA (c),
NTCPMS (d) e pasta de grafite (e) em uma solução de K
3
[Fe(CN)
6
] 5,0 mmol L
-1
em KCl 0,5 mol L
-1
,
variando a velocidade de varredura de 5 a 200 mV s
-1
. ...............................................................................40
FIGURA 16: Curva analítica para a intensidade de corrente de pico versus a raiz quadrada da
velocidade de varredura sobre os eletrodos de NTCPMs, NTCPU, NTCPMA, EPG e NTCPMS.........41
FIGURA 17: Voltamogramas da densidade de corrente versus o potencial aplicado sobre os eletrodos
de NTCPMs, NTCPU, NTCPMA, NTCPMS e EPG na velocidade de varredura de 100 mV s
-1
............ 42
FIGURA 18: Voltamogramas de redissolução anódica de pulso diferencial sobre os eletrodos de
NTCPMs (a), NTCPU (b), NTCPMA (c) e NTCPMS (d), em 1,0 mg L
-1
de íons metálicos Zn, Cd, Pb e
Cu em tampão acetato 0,1 mol L
-1
pH 4,8, com um td = 120 s e Ed = -1,2 V. .......................................44
FIGURA 19: Curvas analíticas da concentração de Hg versus corrente de pico sobre os eletrodos
NTCPMs (a), NTCPU (b), NTCPMA (c) e NTCPMS (d) para os íons metálicos Zn, Cd, Pb e Cu......... 45
FIGURA 20: Voltamogramas de redissolução anódica de pulso diferencial sobre os eletrodos de
NTCPMs (a), NTCPU (b), NTCPMA (c) e NTCPMS (d), em 281,2 µg L
-1
de íons metálicos Zn, Cd, Pb
e Cu em tampão acetato 0,1 mol L
-1
pH 4,8, variando o tempo de deposição dos íons metálicos de 10
a 480 s.................................................................................................................................................................. 47